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產(chǎn)品中心

Product Center

單靶磁控濺射儀

產(chǎn)品簡介

此款單靶磁控濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜(金膜),儀器操作簡單方便,設(shè)備配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空,在 20Pa 真空保護(hù)。同時,配有進(jìn)氣口和微量充氣調(diào)節(jié)裝置,以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。

產(chǎn)品型號:
更新時間:2024-03-27
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問量:2085
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品牌鄭科探價格區(qū)間面議
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域電子

       KT-Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

   此款單靶磁控濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜(金膜),儀器操作簡單方便,設(shè)備配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空,在 20Pa 真空保護(hù)。同時,配有進(jìn)氣口和微量充氣調(diào)節(jié)裝置,以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。


單靶磁控濺射儀  主要特點(diǎn):

  • 可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛

  • 體積小,操作簡便

  • 真空腔室、真空泵組整機(jī)模塊化設(shè)計(jì) ,控制電源為分體式設(shè)計(jì),可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整購買需求。

  • 可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍

磁控濺射頭:

  • 儀器中安裝有3個磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層

  • 其中一個濺射頭與射頻電源相連接,主要是濺射絕緣性靶材

  • 另一個濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導(dǎo)電性靶材

  • 可以單獨(dú)訂購RF連接線作為備用

  • 設(shè)備包含一臺水冷機(jī),用于靶頭冷卻

載樣臺:

  • 載樣臺可以旋轉(zhuǎn)

  • 載樣臺高可加熱溫度

真空腔體:

  • 真空腔體:采用不銹鋼制作

  • 觀察窗口:

  • 腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易


薄膜測厚:

  • 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝 在儀器上,可實(shí)時監(jiān)測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?

  • LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)


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