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Product Center當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心材料樣品處理小型濺射儀單靶磁控濺射儀
此款單靶磁控濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜(金膜),儀器操作簡單方便,設(shè)備配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空,在 20Pa 真空保護(hù)。同時,配有進(jìn)氣口和微量充氣調(diào)節(jié)裝置,以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。
品牌 | 鄭科探 | 價格區(qū)間 | 面議 |
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
KT-Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。
此款單靶磁控濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜(金膜),儀器操作簡單方便,設(shè)備配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空,在 20Pa 真空保護(hù)。同時,配有進(jìn)氣口和微量充氣調(diào)節(jié)裝置,以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。
單靶磁控濺射儀 主要特點(diǎn):
可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛
體積小,操作簡便
真空腔室、真空泵組整機(jī)模塊化設(shè)計(jì) ,控制電源為分體式設(shè)計(jì),可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整購買需求。
可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍
磁控濺射頭:
儀器中安裝有3個磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層
其中一個濺射頭與射頻電源相連接,主要是濺射絕緣性靶材
另一個濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導(dǎo)電性靶材
可以單獨(dú)訂購RF連接線作為備用
設(shè)備包含一臺水冷機(jī),用于靶頭冷卻
載樣臺:
載樣臺可以旋轉(zhuǎn)
載樣臺高可加熱溫度
真空腔體:
真空腔體:采用不銹鋼制作
觀察窗口:
腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易
薄膜測厚:
一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝 在儀器上,可實(shí)時監(jiān)測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?
LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)